光敏印章原理：在光敏垫表面不需要印迹的地方形成保护膜，瞬间曝光。曝光机参数：
电压范围340-370伏，充电时间10-15秒
曝光范围110*70mm，印章范围100*65mm

文字印章制作流程：
1、样稿用激光打印机打印在硫酸纸上[黑白]；
2、硫酸纸[可读面向下]-曝光摸-印章垫；
3、曝光后涂抹印油2分钟后使用；

人像印章制作流程：
1、ps变黑白-分辨率300dpi
2、眉毛、眼睛、嘴局部加深
3、尺寸调整为实际印章大小
4、图片转灰度模式，再转位图模式，输出300dpi，方法:半调网屏，频率100，角度30度，圆形。

附加说明：
1、硫酸纸：比较薄半透明一面光滑另外一面磨砂，磨砂面打印碳粉；
2、曝光纸：稍微厚全透明的，吸收光能高温熔化光敏垫30um孔后封闭印油。
3、光敏垫：多孔海绵状光敏弹性垫，吸收光能的地方熔化后30um孔封闭，没有吸收光能的地方如文字孔不堵塞，透印油。
4、曝光机：电容充电后瞬间放电熔化30um光敏垫微孔，若光能不足可能微孔熔化不充分。
5、PC端软件：比较多，选择合适就行。
6、激光打印机：黑白加深打印。